品牌 : |
郑科探 |
规格 : |
台 |
类型 : |
教学实验 |
型号 : |
KT-Z1650CVD |
控制方式 : |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 : |
数字式功率调整器 |
输出电压 : |
电压≤12V |
镀膜功能 : |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品 |
输出电流 : |
电流≤120A |
功率 : |
≤1200W |
样品台 : |
可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
挡板类型 : |
电控 |
小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。
真空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。
真空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
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