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品牌 : |
郑科探 |
规格 : |
台 |
类型 : |
教学实验 |
型号 : |
KT-Z1650CVD |
控制方式 : |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 : |
数字式功率调整器 |
镀膜功能 : |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品 |
功率 : |
≤1200W |
输出电压电流 : |
电压≤12V 电流≤120A |
真空度 : |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤ |
我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的玻璃真空室结构相得益彰。两组/三组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。
主要特点/优势：
★ 玻璃钟罩真空腔室，可直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；
★ 复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）；
★ 两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；
★ 专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；
★ 可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；
★ 衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm；
★ 可调速旋转靶台使薄膜更均匀
★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；
★ 7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果
★ 具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果
★ 配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果
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