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品牌 : |
郑科探 |
规格 : |
台 |
类型 : |
教学实验 |
型号 : |
KT-Z1605CVD |
控制方式 : |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
工作电源 : |
直流溅射电源 |
镀膜功能 : |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品 |
功率 : |
≤1000W |
输出电压电流 : |
电压≤1000V 电流≤500mA |
真空 : |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤ |
磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择，以便适用支持扫描电子 所需的涂层要求。磁控溅射的原理是，在电场内在叠加一个磁场，这样电子在叠加场内做螺旋运动，行程很长，每个电子电离的气体分子比直流多很多很多，所以可以在低电压下，有较好的真空度。溅射产生同样的镀膜效果。但是因为磁控真空度相对高，所以镀膜的颗粒小，膜层附着力好，靶材的利用率也高。 在直流溅射过程中，样品的温升主要来自于负离子在电场作用下对样品的轰击，在磁控溅射中，负离子都被磁场束缚了，所以基本没有对样品的轰击，所以温升基本没有，很适合温度敏感性的样品制备。
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