紫外线杀菌器在电子工业行业应用

超纯水对电子制造至关重要，无论是晶片、半导体、扁平面板还是大容量存储器。紫外线在整套水处理设备中起到了重要作用，进行消毒、去除有机物、去除臭氧和去除余氯。此外，过氧化处理对原水和再生水越来越重要，水质量要求越来越高，水资源可利用量面临越来越来大的挑战。

在活性炭过滤器、DI树脂和储水罐这样的微生物易繁殖区域之后，细菌控制极为重要。通过特殊紫外线灯管降低总有机碳(TOC)，破坏分子键同时激发水分子中生成分解有机化合物的积极羟自由基，进而分解低水平有机物。海诺威超级总有机碳中压紫外线系统灯管数量比传统灯管减少了高达95%，同时在大流量水处理中运作和维修成本会降低50%或者更多。

臭氧经常用于去除总有机碳和保护储罐中的水，但是臭氧必须被去除，否则就会使设备退化，且不能与晶片接触。中压紫外线保证去除水罐出水中的臭氧，并且不需要使用任何化学药剂或加热。

对再生水和含特殊污染物的水进行高级氧化处理，对全世界的晶圆制造厂来说都非常有价值。由于所有处理工艺通常都是在现场调整，所以需要特别考虑

产品优势：

1 快捷率杀菌：紫外线对细菌、病毒的杀菌使用一般在一至二秒即可达到99%~99.9%的杀菌率。

2 快捷杀菌广谱性：紫外线杀菌的广谱性是 高的，它对几乎所有的细菌、病毒都能快捷率杀菌

3 无二次污染：紫外线杀菌不加入任何化学药剂，因此它不会对水体和周国环境产生二次污染，不改变水中任何成分。

4 运行安全、可靠：传统的消毒技术如采用氯化物或臭氧，其消毒剂本身就是属于有毒、易燃的物质，

而紫外线消毒系统不存在这样的安全隐5）运行维护费用低：紫外线杀菌设备占地小，构筑物要求简单，

因此总投资较少，在运行方面成本也较低，在千吨水处理量水平，它的成本只是氯消毒的1/2

技术参数

1环境条件

1）环境温度：0°C~+50℃C，宣内无腐蚀性气体

2）相对湿度：不大于93%（温度25℃时）

3）设备要安装在室内防止阳光暴晒和雨淋

4）房间通风、干燥，地板清洁、不起灰尘注意：粉尘和腐蚀性气体会对电气元件造成损坏，影响使用效果和寿命。

2水质条件

3.工作条件

1）水温：5℃-60℃1）电压：220V±20V，50Hz2）色度：≤15度

2）设备承压：≤0.6MPa3）浊度：≤5NTU

3）清洗间隔时间：标准型7d/次

4）含铁量：≤0.3mg儿L（可调），气动清洗型24h/次

5）含锰量：≤0.05mg/L（可调），每次17min（可调

6）硬度：120mg/L（CaCo3）4）连接方式：法兰（可选）7）细菌总数：≤2000个/mL