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¥5900等离子清洗机器 去胶活化 刻蚀设备
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¥5900等离子清洗机提高镀膜粘结均匀性 去胶设备
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¥5900等离子去胶机器 活化刻蚀 清洗处理设备
PLASMA常压射频辉光等离子表面处理设备用于FPD、LCD, LTPS, OLED等各种基板玻璃表面清洗和连接前的处理,对材料表面的作用仅涉及到纳米级处理,可在保持处理材料原本效果的同时,赋予其另一种新的功能,是对基板上无损坏的表面清洗工艺。
等离子清洗机对触摸屏的清洗,提高OCA/OCR,压层,ACF,AR/AF涂层等工艺上的粘合力/涂层力,为去除气泡/异物,通过多种大气压等离子形态的运用,可以将各种玻璃,薄膜均匀的大气压等离子放电使表面无损坏进行处理。
等离子清洗机用于半导体成型工艺,刻模工艺&焊接工艺,焊球连接&安装工艺的广泛使用可以提高芯片和环氧间的粘结力,和引线框架的安装和粘接力,板材和焊球之间的粘结力。防止半导体特性上的电气损坏或者容易发生的静电问题 ,可以采用多元系统技术。另外,因为可以根据硅片的大小制造大气压等离子,无论多小的等离子清洗机都可以适用。
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