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供应高纯贵金属钌（Ru）磁控溅射镀膜沉积靶材
产品名称： | 钌（Ruthenium -Ru）溅射靶材 |
牌号规格： | Ru2 |
用途备注： | 钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等 |
产 品 详 情
贵金属钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、
大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司具有完善的靶材加工、质量控制和残靶回收技术，能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌(Ru)溅射靶材。
规格尺寸 | |
形状 | 圆形、方形 |
尺寸 | |
厚度 | 315mm |
纯度 | 4N |
注：其它尺寸可根据客户要求制作。 | |
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