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高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材(Ir) Iridium 铱靶
产品名称： | 铱靶、铂靶、钯靶、银靶、铑靶 |
牌号规格： | Ir1、Pt1、Pd1、Ag1、Rh1 |
用途 ： | 主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜酞阳能及平面显示等领域。 |
产 品 详 情
随着镀膜沉积靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜酞阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
铱溅射靶材Iridium (Ir)
规格尺寸：
形状 | 圆形、方形 |
尺寸 | Φ50170mm |
厚度 | 315mm |
纯度 | 3N5 |
注：具体尺寸请联系销售。
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