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半导体材料清洗会使用到超纯水，这是为了充分保障半导体的物理化学性质稳定，不受颗粒物、金属氧化物、灰尘污垢等杂质的污染，以此来维持其良好的功能。超纯水纯度高，基本不含有除氢原子和氧原子之外的任何细菌、有机物、无机盐等杂质，因而是清洗半导体的理想工具。
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