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北京京迈研材料科技有限公司

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京迈研2504 二氧化硅颗粒(SiO2)99.99% 电子束镀膜蒸发料

硅氧化物产品京迈研2504二氧化硅颗粒,欢迎选购!

¥300
¥280
起订量
1-9千克
≥10千克
可售量
200 千克
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型号 :
2504
类目(比表面积) :
A
产商/产地 :
北京
名称 :
二氧化硅颗粒
产品等级 :
化学纯
含量 :
99.99
品牌 :
京迈研
价格 :
可面议报价
规格 :
根据客户要求定制
产品详情
Product details

二氧化硅(SiO₂)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

二氧化硅(化学式:SiO₂)是一种酸性氧化物,对应水化物为硅酸(H₂SiO₃)。二氧化硅是硅重要的化合物之一。地球上存在的天然二氧化硅约占地壳质量的12%,其存在形态有结晶型和无定型两大类,统称硅石。

中文名

二氧化硅

熔点

1650(±50)℃

化学式

SiO₂

水溶性

2230℃

分子量

60.08

溶解度

0.012g/100ml(水中)

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位 ,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

搜好货供应商北京京迈研材料科技有限公司供应京迈研2504 二氧化硅颗粒(SiO2)99.99% 电子束镀膜蒸发料,为您提供详细的产品报价、参数、图片等商品信息,如需进一步了解京迈研2504 二氧化硅颗粒(SiO2)99.99% 电子束镀膜蒸发料,请与厂家直接联系,请在联系时说明是在搜好货网看到这条商机的。
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  • 杨杏林 客服部
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