| 型号: | Qx-mir-gl | 规格: | 12.5 mm X 25.0 mm X |
| 商标: | 一博 | 包装: | 硬塑 |
| 设计波长: | 3.1 | 刻线数: | 800 |
刻线衍射光栅,MIR反射式基本介绍
QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅,适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异,
刻线衍射光栅,MIR反射式性能特点
· 设计波长:3.1 µm、3.5 µm、10.6 µm
· 设计波长处的偏振效率:80%到95%
· 低重影:小于主反射的0.5%
· 反射铝膜
· Pyrex基底,75到450刻线/mm
· 使用刻线的基底材料生产
· 损伤阈值:
o 连续波激光:250 W/cm2
o 脉冲激光器:3.5 J/cm2 (200 ns脉冲)
刻线衍射光栅,MIR反射式技术参数
Dimensions (W x H x D) | Design Wavelength | Grooves/mm | Blaze Angle | Dispersion |
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm | 3.1 µm | 450 | 32° | 1.6 nm/mrad |
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm |
Dimensions (W x H x D) | Design Wavelength | Grooves/mm | Blaze Angle | Dispersion |
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm | 3.5 µm | 300 | 26.5° | 2.86 nm/mrad |
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm |
Dimensions (W x H x D) | Design Wavelength | Grooves/mm | Blaze Angle | Dispersion |
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm | 10.6 µm | 75 | 21° | 12.3 nm/mrad |
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm | ||||
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm | 100 | 27° | 8.5 nm/mrad | |
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm | ||||
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm | 150 | 35° | 4.2 nm/mrad | |
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm |
刻线衍射光栅,MIR反射式使用说明
光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取,而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套,以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮 扫光栅,其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。
刻线衍射光栅,MIR反射式采购须知
这些光栅用于在常见分子激光波长下获得峰值偏振效率,因此与标准的刻划衍射光栅(紫外、可见和近红外刻划光栅)不同。对于这些光栅,凹槽闪耀角不等同于Littrow配置角,后者优化了光栅效率,用于非偏振光。因此,Littrow配置的反射光栅的标准公式也不再适用。
请注意,这些光栅的反射铝膜是 的,而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能 ,而MgF2膜提供 保护性;详情请咨询技术支持。
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