ULVAC 高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。

产品特性 / Product characteristics

有磁场ICP（ISM）方式-可产生低圧・高密度plasma、为不挥发性材料加工的专用设备。

可提供对应从常温到高温（400ºC）的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。

通过从腔体到排气line、DRP为止的均匀加热来防止沉积物。

该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构，是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。

实现了长期的再现性、安定性

产品应用 / Product application

   FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.