中正冶金专业生产陶瓷靶材氧化铌靶材、Nb2OX靶材,等离子喷涂的旋转氧化铌靶,铌靶、平面氧化铌绑定金属化服务等等
等离子喷涂旋转靶材,是将金属或非金属喷涂粉在等离子焰流中加热到熔化或半熔化状态,并随同等离子焰流,以高速喷射并沉积到预先经过处理过的工件表面上,随着往复持续的喷涂,可以得到一定厚度的靶材。由于等离子喷涂温度高,几乎可以喷涂所有难熔金属及陶瓷粉末;并且喷涂过程为一次成型,喷涂靶材的尺寸不受限制,步骤简单,方便灵活。
利用等离子喷涂工艺制备大面积陶瓷板(Al2O3,Cr2O3,TiO2,Al2O3-TiO2,Al2O3-SiO2,ZrO2,MoSi2)的方法;
利用等离子喷涂的方法制备了含有15摩尔%-60摩尔%Nb2O5的TiO2旋转靶;
利用常压等离子喷涂技术制备了不同配比的Al-Si靶材。但都未涉及到利用等离子喷涂的方法制备氧化铌旋转靶材。
喷涂粉的制备:将纯度不低于99.95wt%,粒径为1-5μm左右的氧化铌粉中掺入其重量的2-10%的铌粉(Nb),经机械混合后在1100-1350℃温度下真空烧结6-10小时团聚长大、然后经球磨、过筛得到150-300目的氧化铌喷涂粉。
所述两根吹气管与喷枪的喷射轴线平行,与喷涂基体垂直。
所述吹气管内径为4-6mm,外径6-10mm,长度为100-250mm。
所述吹气管在喷涂时管端距涂层距离保持在15-25mm。
所述两根吹气管之间的距离保持在40-80mm,等距固定在火焰的两侧。
所述两根吹气管中的气流量由气体流量计控制,一般控制在20-80L/min。
利用上述装置,从气体流量计通入压强为0.3-0.5Mpa,流量为20-80L/min的压缩空气或氩气(空气和氩气的区别仅为氩气为惰性气体,可以降低涂层的氧化,一般情况下不需要),通过吹气管形成两束平行于等离子焰流、垂直于基体的气流,这两束气流跟随喷枪的左右移动而在焰流的前后进行扫射,对吸附在涂层表面的灰尘进行清除,同时通过控制气流的大小来控制涂层表面的温度,使之保持在100-160℃,这样避免了因喷涂时间的延长而出现涂层表面温度的升高,为实现长时间连续的喷涂提供了稳定的条件,从而提高了喷涂效率和喷涂靶材的质量。
通过本发明方法制备的氧化铌旋转靶材结构致密、成分均匀,无裂纹,其喷涂长度和直径不受限制,厚度可达到12mm;密度为4.6—5.2g/cm3,靶的成分为Nb2O4.3-4.9。本发明方法生产过程简单便捷,成本较低。
在外径为66mm,长度为100mm的不锈钢管上喷涂厚度为5mm厚的氧化铌靶材。
1、将纯度不低于99.95wt%,粒径为2μm左右的氧化铌粉中掺入其重量的4%的Nb粉,经机械混合后在1250℃温度下真空烧结8小时团聚长大,然后经球磨、过筛得到150-300目的氧化铌喷涂粉。
2、喷涂基体的处理:用清洗及机械打磨法去除包括表面污垢和氧化层,以及喷砂,使基体表面达到一定得粗糙度。
3、喷涂打底层:用等离子喷涂法喷涂0.2mm镍包铝涂层。
4、将氧化铌喷涂粉用等离子喷涂法喷涂在已经喷涂有打底层的基体管上,在喷涂过程中基体管用水冷却,靶材表面用压缩空气进行冷却,控制靶材表面温度在100-160℃范围。
本实例制备的氧化铌旋转靶材为黑色,结构致密,成分均匀,无裂纹;厚度5.5mm;用阿基米德法测得的密度为5.07g/cm3,通过在氧气氛中加热到充分氧化,测增重法得靶的成分为Nb2O4.50。
在外径为133mm,长度为50mm的不锈钢管上喷涂厚度为10mm厚的氧化铌靶材。
1、将纯度不低于99.95wt%,粒径为2μm左右的氧化铌粉中其重量的4%的Nb粉,经机械混合后在1250℃温度下真空烧结8小时团聚长大、然后经球磨、过筛得到150-300目的氧化铌喷涂粉。
2、喷涂基体的处理:用清洗及机械打磨法去除包括表面污垢和氧化层,然后采用喷砂粗化基体表面,使基体表面达到一定得粗糙度,以增加基体与涂层的结合强度。
3、喷涂打底层:用等离子喷涂法喷涂0.2mm镍包铝涂层。
4、将氧化铌喷涂粉用等离子喷涂法喷涂在已经喷涂有打底层的基体管上,在喷涂过程中基体管用水冷却,靶材表面用压缩空气进行冷却,控制靶材表面温度在100-160℃范围。
应用:主要用于Low-E玻璃膜系,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT,半导体
产品化学成分和物理性能:
化学式:Nb2Ox (x<5)
电阻率(20°C): ≤ 0.1 Ω. Cm
成型工艺:喷涂
密度: >4.3g/cm3(>95%)
纯度: > 99.95%
杂质含量 (单位: ppm, 总杂质含量≤ 500ppm)
加工尺寸
①旋转靶材:
长度L 4000MM 厚度T 6-10MM
直型、狗骨型
按客户要求定做
包装方式:真空密封包装,使用标准出口木箱。②平面靶
常规尺寸100*100*6-10mm
具体 的可以根据可以的要求定制,我司还提供平面氧化铌的绑定以及金属化服务。
多晶硅靶和氧化铌靶材以及绑定
氧化铌靶材+铜背板绑定服务
等离子喷涂氧化铌旋转靶材
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