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匀胶旋涂仪Spin Coater型号:WS-650Mz-23NPPB库号：M406433
一、设备用途和特点：
1、用途：主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使用。设备能满足各类以下尺寸的基片处理要求，并配制相应的托盘夹具。验收除按卖方提供的标准基片外，另外可根据买方要求的10mm的碎片和4英寸的晶圆片等验收试验要求。
2、特点：
（1）外观整洁、美观，占地面积小，节省净间的使用面积；（2）材质易于清洗和维护，设备结构布局合理，用户操作、使用、维
修方便；（3）采用成熟、的系统结构方式，确保设备工作的性；
（4）设备具备高性能、低故障率、长使用寿命、易操作维修、造型美观、售后服务完备。
二、设备配置明细
设备具体配置如下
POS.QTY.PART DESCRIPTION
项目号数量部件名称描述
1 1匀胶机主机WS�650Mz�23NPPB
匀胶机主机
2 1真空泵Vacuum Pump Rock300
配套真空泵浦Rock300
3 1真空托盘Spinner Chuck 50~150mm
匀胶托盘50~150mm
4 1真空托盘Spinner Adapter 10~50mm
匀胶转接托盘10~50mm
5 1系统附件含密封圈若干、标准样片、水平仪、连接管
若干
6 1操作软件Spin 3000 Software
Spin 3000操作软件
7 1安装文档Installation Documents
安装文档
三.设备技术资料
匀胶机台
1．系统概述
1.1智能嵌锁，系统盖板具有智能嵌锁装置，确保操作；
1.2防腐装置；
1.3*设有保护气体装置：旋涂过程中对旋转马达进行气流保护；
1.4通信接口，蓝牙连接
2．处理腔体
2.1处理腔体内径不小于9.5英寸(241毫米)；
2.2*Wafer芯片尺寸至少满足10�150mm直径的材料，方片125x125mm，
无需换片托；
2.3腔体具有易清洁的NPP天然聚材质；
3．旋转马达
3.1转动速度至少满足0�12,000rpm，
3.2旋涂加速度不小于12,000rpm/sec；
3.3马达旋涂转速稳定性能误差不过±1%；4．控制系统
4.1工艺时间设定范围至少满足1�5999.9 sec/step，精度不过0.1s；
4.2配有高精度PLC可编程的控制器，设置点精度小于0.006%；
4.3可存储不少于20个程序段，每个程序段可设置不少于51个不同步骤的速度状态；
4.4*分辨率要小于0.5RPM，重复性误差要小于±0.5RPM，具有标准，并且无需再校准；
5．配套泵浦
5.1配套真空泵系统：无油型220~240伏交流，50/60赫兹；
5.2真空吸附范围25�28英寸汞柱(~635�711毫米汞柱)可调节，抽速不小于4.5 SCFM(0.11立方米/分钟)；
6．系统附件
6.1*免费赠送基于Windows的操作软件；
6.2原装进口水平测试仪；
6.3两袋密封圈；
*配有两套可换的废液接收单元；
四.设备运行条件
4�1．设备条件要求
1.环境要求
a)无尘室1000级或者
b)温湿度温度：22±3°C°C
湿度：45~70%
c)安装维护距离与其他设备或者墙面距离≥30cm
d)设备尺寸以及重量长宽高：420mm x 380 mm x 290mm
重量：15kg
2.电力要求220 V±10%,16 A,50 Hz
3.动力要求
a)真空25~28 Inches Hg
b)氮气60�70 PSI
c)干燥空气60�70 PSI
五.售后服务
5�1.设备保修期为设备验收合格后1年(保修期内免费提供非人为因素损
坏的备件及服务)，并长期提供技术支持。
5�2机器发生故障时,供方在24小时内明确回复。
5�3如果未能解决问题,供方工程师应在2个工作日内与用方达成故障解决
方案。
5�4设备保修期内，损坏的备件原则上卖方应在1个工作日内明确回复备
件的交货期限。并当供方仓库有备件库存时,在1个工作日内寄出。
5�5保修期结束后，供方应在收到买方定单后1个工作日内明确回复备件
的交货期限。
5�6保修期结束后，供方应优惠供应相关备件。涉及的相关技术服务尽量
免费解决，不可避免的收费项目，卖方应提供优惠，届时协商解决。
5�7供方承诺向用方长期优惠供应设备相关的耗材。
5�8售后服务，人员安排由双方协商确定。
5�9针对中国客户操作员频繁换的特点，公司每年提供所在城市的免费设备巡检服务，检查设备潜在故障和隐患，培训新操作人员。
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