品名： 镍铬合金靶材
纯度：99.9%
比例：80：20wt%、95：5wt%
尺寸：平面靶材（根据图纸定制）、旋转靶材（ID56xOD70xL，ID125x OD152~159xL）
【中正冶金】自主研发的真空溅射靶材、光学镀膜材料广泛应用于装饰膜、工具镀膜、光学镀膜及镀膜玻璃工业与平板显视行业。
生产的溅射靶材成分设计合理、表面平整光滑，具有良好的导电性，溅射时工作电流稳定，高阻靶材的底板焊接牢固适用，采用该靶材制作的电阻器，具有阻值集中、稳定性好，有良好的耐热、耐磨和抗氧化性能，电阻温度系数小等特点。
其靶材的制备都是根据其材料特性来加工的：分热压烧结工艺法和真空熔铸工艺法，产品均具有纯度高，微观组织优异及利用率高等特点，靶型有：平面矩形，管形，圆盘形，环形，片状，粉状等，规格和成分还可以根据用户的具体要求来定做。
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