铜靶、高纯铜靶材、管、平面、颗粒、坩埚，根据图纸定制
铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等领域。
铜靶材物理性质
名称 | 密度 | 色泽 | 熔点 | 沸点 |
铜靶材 | 8.92g/cm3 | 紫红色 | 1083.4℃ | 2567℃ |
铜靶材用途
适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。
铜靶材分类
铜靶材有平面铜靶材和旋转铜靶材之分。
平面铜靶材是片状的，有圆形、方形等。
旋转铜靶材是管状的，利用效率高，但不易加工，要通过高纯铜挤压、拉伸、校直、热处理，机加工等多种加工工序才能 终制得铜旋转靶材成品。
铜靶材的概况
靶材名称 | 铜靶材 | |||
常用纯度 | 99.9%3N | 99.99%4N | 99.999%5N | 99.9999%6N |
常用尺寸 | φ100*40mm/ ID56*OD70*L/ID125*OD152*L/ID88*OD104*L | |||
尺寸 | 目前长5000mm的铜靶材 | |||
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