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1.钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。
2.钼靶材纯度：99.9% ，99.99%
3.规格：圆形靶，板靶，旋转靶
4.钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
5.纯度：纯钼≥99.95%，高温钼≥99%（添加稀土元素）
供货状态：成品态
规格：根据客户要求定制
生产工艺流程：
钼坯(原材料)-检验-热轧--碱洗-冷轧-校平-机械加工-检验-包装
包装方式:木箱包装
工期：定制15天内交货（库存随时发货）。
发货方式：快递或物流（可协商）
钼材料适用环境：真空环境或惰性气体保护环境，纯钼较高耐高温1200度，钼合金较高耐高温1700度。
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