中正冶金 供应Cu 铜靶、多弧铜靶、铜管靶、镍靶、镍管靶、镍铬合金靶 厂家直销，物美价廉

                     中正冶金生产铜靶材 5N 高纯铜靶材 平面靶 旋转靶

  厂家专业生产4N,5N高纯铜靶材，平面、圆柱、圆形为主，是磁控溅射镀膜的原材料，在电子，手机，信息等IT产业应用广泛。

    生产销售，铜合金靶材材料，铜合金可以根据客户要求进行配料设计单件生产。专业生产，品质保障。

    高纯铜颗粒熔炼料，5N, 6N纯度，进口材料。

    铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等 领域。

    适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。

   平面铜靶材是片状的，有圆形、方形等。

通过真空熔炼、无污染熔炼、、真空喷涂，真空压力铸造、锻造、真空轧制变形及高真空高温蒸馏提纯等综合工艺，生产的产品包括单一金属靶材、合金靶材（二元合金、三元合金、四元合金及多元合金等）、高纯金属（高纯Fe、高纯Ti、高纯Al、高纯Cu、高纯Sn、高纯Ag等）、陶瓷靶材、各种材质的旋转靶，平面靶，多弧靶，可根据客户的需要定制不同比例的合金以及非金属，氧化物等靶材，我司才提供靶材的金属化以及绑定服务。

Ti, Zr, Ta, Nb, Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, Si, Cu,ITO,AZO.TZO,WC,Nb2O5,TiO2, SiO2 ，GZO,Ag，Ta，Mg targets

1) Ti/Al 合金靶材 (67:33,50:50at%)

2) W/Ti 合金靶材 (90:10wt%), 

3) Ni/V 合金靶材 (93:7,wt%)

4) Ni/Cr 合金靶材 (80:20, 70:30,wt%), 

5) Al/Cr 合金靶材 (70:30,50:50at%)

6) Nb/Zr 合金靶材 (97:3,90:10wt%）

7) Si/Al 合金靶材 (90:10,95:5,98:2,70:30,wt%)

8) Zn/Al 合金靶材

9)高纯铬靶 (99.95%, 99.995%)

10)Al/Cr 合金靶材 (70:30, 50:50，67:33，at%)

11) Ni/Cu合金靶材 (70:30,80:20,wt%)

12)Al/Nd 合金靶材 (98:2wt%)

13)Mo/Nb 合金靶材 (90:10,wt%)

14)TiAlSi 合金靶材 (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10 ,wt% and at%)

15)CrAlSi 合金靶材 (Cr/Al/Si=30/60/10 ,wt% and at%)