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高纯度钽靶、钽颗粒，钽溅射靶材，五氧化二钽膜料，Ta2O5,溅射靶材,蒸发颗粒，中正靶材

钽产品中正冶金高纯钽靶，欢迎选购！

价加格	¥3000	¥2999
起订量	1-9千克	≥10千克
可售量	32465 千克

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深圳市中正冶金科技有限公司
联系姓名：李元
电话号码：13534136308
固定电话：0755-27426325
所在地区：广东省-深圳市
经营模式：生产厂家
主营产品：海绵锆靶, 高纯镍靶, 高纯铬靶, 高纯铝靶, 高纯铜靶, 氧化铌靶, 氧化钛靶, 多晶硅靶, 硅铝合金靶, 钛铝合金靶
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牌号 :	ta1	产地 :	深圳
钽含量≥ :	99.95%	杂质含量 :	0.005
重量 :	1kg	品牌 :	中正冶金

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Product details

产品名称：钽靶材
牌号：Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
标准：GB/3629-2006
纯度：≥99.95%
状态：退火态（M）或硬态（Y）
尺寸：原片，管状，颗粒，平面

外径（mm）	厚度（mm）	表面粗糙度	平面度
50~400	3~50	32Rms	≤0.15%
注：特殊产品需供需双方协商解决。

成分要求：

牌号	元素含量 (质量分数%)
牌号	C	N	O	H	Fe	Si	Ni	Ti	Mo	W	Nb	Ta
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	余量
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	余量
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5~3.5	余量
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17~23	余量
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35~42	余量
TaW2.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0~3.5	0.5	余量
TaW7.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5~8.5	0.5	余量
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0~11	0.1	余量

应用：钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材，化学纯度高，晶粒尺寸小，再结晶组织和三个轴向的一致性好，

主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，钽靶材可用于阴极溅射涂层，高真空吸气活性材料等.

是重要的薄膜技术用材料。

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