金属溅射靶材
B :高纯硼靶材 纯度99.9
原子量: 10.811
熔点:2075
沸点:2550
密度:2.34
我公司采用3N硼为原料制作溅射靶材,可用于耐高温合金工业,半导体材料,核化学中用作种子吸收剂。





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