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上海销售进口韩国ITO靶材 磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发

真空镀膜加工产品Zenkaan韩国ITO靶,欢迎选购!

价加格
¥300
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起订量
1-9片
≥10片
可售量
56800 片
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工件材质 :
氧化因锡
电镀类型 :
镀锡加工
打样周期 :
4-7天
加工周期 :
4-7天
年最大加工能力 :
100000
年剩余加工能力 :
50000
规格 :
圆片、方形、板材、颗粒
品牌 :
Zenkaan
产品详情
Product details

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜,广泛应用于酞阳能、LCD、TP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式,

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多 ,高端TFT-LCD用ITO靶材均来自日本的东曹、日立、住友、日本能源、三井,日矿金属,韩国三星康宁等公司

 

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt) 其他比例以客户要求为准

相对密度: 99.5(理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99

尺寸规格:依据客户要求为准

 

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99以上,主要杂质元素Cu、Fe、Pb、Si、Ni分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm。

2)相对密度:相对密度要求在99.5以上,密度均匀度偏差

0.15。

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3相,

             Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:

120MPa。

 


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振卡(上海)实业发展有限公司
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公司从事新材料研发、生产与全球销售服务一体的综合性公司。由资深专家带领着高素质的研发团队和经验丰富的管理人员组成,并与科研院校及海外公司有着多年的技术和人才合作。我司产品通过氧气充足烧结法、热等静压法、真空熔炼等成型,根据客户的具体要求加工各种材质的镀膜靶材,并为客户提供技术上的服务与支持。公司生产的真空溅射靶材及光学镀膜材料主要应用于:半导体芯片、装饰镀膜工业、太阳能光伏、数据储存工业(光盘)、平板液晶显示(LCD)、光伏通讯工业、玻璃镀膜(建筑玻璃和汽车玻璃)工业、抗腐蚀抗磨损(表面改性)等领域。工厂生产的产品分别有各种高纯度稀贵金属,金属合金,金属陶瓷和陶瓷组成。靶材可以制成各种形状,大小和纯度水平以满足设计规范。并提供靶材与背板的绑定服务,陶瓷与金属的焊接。 公司产品名称: 磁控溅射镀膜靶材 部分化学式,Pd,Os,Rh,Pr, Si,Ag,Au,Cr, Si-Al, ITO,ZAO, ZnO, IGZO, CIGS,Au-Sn, Ni-Cr, Cr-Si, Al, Al-Cu, Al-Ti, Al-Si-Cu, Ni-V, C, Ta, TaSi2, W, WSi2, Ti, Ti-W, B,其他 产品应用: 1、太阳能和光电 2、半导体 3、平板显示器 4、薄膜电阻 5、磁记录介质(硬磁盘,可擦写光盘) 6、热敏打印头 7、磁头 8、镀膜玻璃 一、产品种类:高纯金属靶材、合金靶、贵金属靶、多元陶瓷靶及复合型靶材。 二、靶材规格:平面靶材、圆柱靶材、多弧靶材、旋转靶材。 三、绑定焊接:为客户提供(铜、钼、不锈钢、钛)等背板,及靶材与背板绑定服务。

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公司名称振卡(上海)实业发展有限公司
公司类型有限责任公司(自然人投资或控股)
经营模式生产厂家
成立日期2014-12-02
经营地址上海市市辖区东工业区
主营行业贵金属矿产,贵金属矿产,真空镀膜加工,实验器皿
主营产品贵金属靶材,黄金靶材,锇靶,铑靶,铂靶,铱靶,钌靶,钯靶,银靶,陶瓷靶材,日本ITO靶材,蒸发镀膜颗粒,IGZO靶材,贵金属合金靶材,金锡合金80:20,MEMS传感器,铂电阻靶材,铱铼合金靶,溅射靶材
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此上海销售进口韩国ITO靶材 磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发产品由振卡(上海)实业发展有限公司在2017-09-07T00:06:04更新,主要更新内容为:产品起订价,产品起订量,产品类别,联系方式,产品参数信息。
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