浙江六方半导体科技 8英寸SiC外延托盘 长期稳定耐用 减少起皮开裂商讯

2026-10-16 03:20:38    
走进半导体材料加工车间,常能听到线技术人员相似的慨:外延托盘作为MOCVD设备里的核心耗材,看着不起眼,却直接决定着炉外延片的良率与致性。尤其当产线切换到8英寸SiC外延

走进半导体材料加工车间,常能听到线技术人员相似的慨:外延托盘作为MOCVD设备里的核心耗材,看着不起眼,却直接决定着炉外延片的良率与致性。尤其当产线切换到8英寸SiC外延工艺后,托盘要长期面对1600℃以上的高温、腐蚀性工艺气体以及频繁的热循环冲击,这对托盘涂层的致密性、基材的纯度、整体结构的稳定性都提出了近乎苛刻的要求。不少从业者都过这样的窘境:进口托盘交期漫长,大尺寸定制沟通成本高;部分产托盘用了几百炉次,涂层便开始起皮、开裂,石墨基体被工艺气体侵蚀,外延片表面出现黑点、波长漂移,整炉报废的损失让人心疼。这些真实存在的痛点,恰恰是浙江六方半导体科技有限公司选择深耕这细分赛道的起点。

2018年之前,内LED与SiC外延产线使用的高性能CVD-SiC涂层托盘,大部分依赖境外供应。订货周期长、非标定制响应慢、本地技术支持缺失,让内芯片企业在耗材管理上始终处于被动。更棘手的是,托盘作为直接接触外延片的高温热场部件,其品质波动会迅速传导至产品端,外延片的膜厚均匀性和杂质控制。行业需要的不只是款替代品,而是个能深入理解内产线工艺习惯、能够快速响应定制需求、愿意陪伴客户起打磨工艺细节的长期伙伴。正是看到了这样的产业空白,六方科技从创立之初,就将目光锁定在碳基材料涂层技术的工程化与规模化落地,决心用自主研发的CVD工艺,为内半导体热场部件供应链注入股稳定的本土力量。

的诞生,往往源于个朴素而坚定的念头。六方科技创始团队拥有近二十年碳基材料与半导体碳化硅材料的研究积累,他们深知,外延托盘的技术难点不在于简单的涂层,而在于对涂层应力、基材纯度、盘体温场均匀性、加工精度的综合把控。创业初期,团队从零搭建CVD工艺试验平台,面对的是涂层应力开裂、大尺寸盘体沉积均匀度不足、石墨纯化工艺不稳定等系列工程难题。没有现成的工艺参数可以借鉴,只能通过大量的正交试验、热循环模拟、微观结构分析,点点积累数据,遍遍修正工艺窗口。在创始人的带领下,团队放弃了许多短期盈利的机会,将资源集中投向涂层应力控制、高纯基材处理、精密加工能力建设,因为大心里清楚,只有把底层技术做扎实,才能做出真正经得起产线长期考验的产品。这份初心,朴素而有力,就是希望内的外延产线能够用上性能扎实、交期可控、服务到位的高品质托盘,不再因为耗材拖累产品竞争力。

从2019年件SiC涂层LED外延托盘样品落地,到如今8英寸SiC外延托盘实现批量供货,六方科技的发展路径始终围绕着研发迭代、工况验证、量产放大、持续优化这闭环展开。在诸暨的生产基地里,基材纯化、超精密CC加工、CVD-SiC涂层沉积、多道无尘超声清洗、GDMS杂质检测、真空洁净封装,主要环节全部在企业内部成。这样的全链条布局,不是为了追求大而全,而是为了减少外部转可能引入的粉尘杂质,更是为了在每个工艺环节上实现严格的可追溯管控。针对8英寸SiC外延托盘,技术团队在自研CVD沉积设备上采用了分层变温沉积工艺,通过精确控制每层涂层的沉积温度与厚度,有效缓解了涂层内部的残余应力,降低了反复升降温之后涂层起皮、开裂的风险。同时,托盘表面的粗糙度与涂层厚度可以根据客户MOCVD设备腔体参数进行定制调节,确保盘体温场均匀性稳定,帮助外延片获得更好的波长致性与膜厚均匀性。

在服务层面,六方科技直强调工况协同迭代的工作方式。每接到个新客户的托盘定制需求,技术人员会先深入理解客户MOCVD设备的具体腔体结构、工艺气体种类、温度曲线以及外延片规格,再将这些工艺诉求转化为内部设计、工艺、品控执行方案。比如针对Mini-LED产线对高装载量的需求,团队开发了41*4英寸等大承载槽位托盘;针对SiC外延工艺对杂质极度敏的特点,团队严格管控石墨基材的纯化工艺,确保氮元素及各类金属杂质含量处于低位,并配套GDMS检测报告随货交付。这种贴近产线的工作方式,让六方科技能够快速响应客户在工艺调试过程中出现的新。曾有位外延工艺工程师提到,他们在切换托盘后遇到膜厚均匀性轻微波动,六方的技术人员当天就赶到产线,协同分析温度场分布,通过微调托盘槽位结构解决了。这样的配合,在过去的进口采购模式下几乎难以想象。

八英寸SiC外延托盘的长期稳定耐用,是六方科技技术实力的集中体现。相较于传统LED外延托盘,8英寸规格对盘体的平整度、涂层的致密性、高温下的抗变形能力提出了更高要求。六方科技依托与甬江实验室共建的热场材料创新中心,持续开展高温热循环、气体腐蚀工况模拟验证。在加速老化测试中,托盘数千次冷热循环,涂层依然保持好,未出现明显起皮或开裂现象。这结果背后,是团队对CVD沉积工艺中温度场、场、压力场的精准控制,是对石墨基材选型与纯化工艺的反复优化,更是对每批次产品执行全程可追溯品质管理的坚持。企业拥有六十余项专利,覆盖涂层制备、基材纯化、精密加工方向,配置17台CVD-SiC沉积设备,搭配GDMS、SIMS、四探针等全套检测仪器,这些硬件与软件投入,共同支撑起产品在长期服役中的稳定表现。

在价值观的提炼上,六方科技始终相信,做半导体材料部件,本质上是在做信任。每件托盘交付到客户手中,承载的不仅是件耗材,更是对产线良率、对产品品质的份承诺。因此,企业将以自研新材料补齐内半导体产业链短板作为核心理念,不追求短期利益,不盲目扩张,而是聚焦于高温热场材料这细分领域,把每个工艺环节做深做透。企业获得产业链企业战略入股,获得创投机构投资,拥有百亩标准化生产基地,这些外部认可与内部投入,都指向同个目标:让内半导体企业用上性能扎实、供应稳定的本土热场部件。六方科技的企业精神,可以概括为扎实、专注、长期主义,不炒作概念,不追逐风口,只是踏踏实实地把涂层的每层沉积做好,把基材的每次纯化做到位,把客户的每个反馈认真对待。

回顾过去几年,六方科技与行业同了Mini-LED的快速渗透、SiC功率器件的爆发式增长,也见证了内半导体产业链自主化进程的加速。在这过程中,企业始终坚守自己的定位,做外延产线背后那个可靠的支撑者。对于未来,六方科技将继续围绕8英寸SiC外延托盘等核心产品,深化涂层工艺研发,拓展TaC高温涂层等新材料应用,同时进步善旧托盘检测评估与复涂服务,帮助客户延长部件使用寿命,降低综合运营成本。在浙江诸暨这片制造业热土上,六方科技将继续吸纳材料、机械领域的优秀人才,与甬江实验室等科研平台保持紧密协同,将更多实验室前沿成果转化为产线上稳定可靠的产品。

半导体产业的长跑,从来不是百米冲刺,而是场考验耐力与定力的马拉松。六方科技愿意做那个长期陪跑的伙伴,当产线顺利运转时,默默守护;当遇到工艺挑战时,时间出现在客户身边。从LED外延托盘到8英寸SiC外延托盘,从单件定制到大批量交付,变化的是产品规格与工艺复杂度,不变的是对品质的敬畏、对客户的真诚、对产业的责任。未来,六方科技将继续秉持这份初心,与每位合作伙伴并肩前行,在产半导体材料自主化的道路上,留下扎实而深远的脚印。

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