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京迈研3570 镧铈锰氧靶材LaCeMnO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研3532 三氧化二钛靶材 Ti2O3 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥900
京迈研3625钴铁合金靶材 CoFe合金 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥900
京迈研3630钛镁铝合金靶材 TIMgAl合金磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥500
京迈研2327 金属镍靶材(Ni)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研2324 金属铪靶材(Hf) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥500
京迈研2305 金属铜靶材(Cu)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3508 二氧化铈靶材(CeO2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥900
京迈研3404 碲化铋靶材(Bi2Te3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3401 硫化锌靶材(ZnS) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥900
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京迈研 3563 铁酸镍靶材 NiFe2O4磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥500
京迈研3519 三氧化钨靶材(WO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥500
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