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京迈研3557 氧化铥靶材(Tm2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3413 二硫化钨靶材(WS2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥1000
京迈研3409 碳化钨靶材(WC) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研2323 金属钒靶材(V) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研2332 铅靶材 (Pb)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3544 钛酸锂靶材(Li2TiO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3545 钒酸锂靶材(LiO3V) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥1000
京迈研3402 氮化铝靶材(AlN) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
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