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京迈研2312 金属铬靶材(Cr) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥500
京迈研2319 金属钨靶材(W)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研2323 金属钒靶材(V) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥900
京迈研3504 铁酸铋靶材(BiFeO3 ) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3509 氧化铝靶材(Al2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3503 钛酸锶钡靶材 BST磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥1000
京迈研1714 二硒化钛靶材TiSe2target 硒化物陶瓷靶材 磁控溅射镀膜材料¥700
京迈研2353金属碲靶材(Te) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥1100
京迈研2338 稀土金属钪靶材(Sc) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥900
京迈研3418 碳化钛靶材(TiC) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研3527 SnO2掺杂氟 FTO靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研3538 氧化铟靶材 (In2O3)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥900
京迈研3556 IWO靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研3541 钴酸锂靶材(LiCoO2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研3534 二氧化铪靶材 (HfO2)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥1100
京迈研3405 氮化硼靶材(BN) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥900
京迈研3557 氧化铥靶材(Tm2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥1000
京迈研3409 碳化钨靶材(WC) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研3506 氧化镍靶材(NiO) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥500
京迈研3513 氧化钕靶材(Nd2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3521 氧化铋靶材(Bi2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研3511 铌酸锂靶材(LiNbO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥500
京迈研3529 氧化镓靶材(Ga2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3515 三氧化二铬靶材(Cr2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥700
京迈研2332 铅靶材 (Pb)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3544 钛酸锂靶材(Li2TiO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3545 钒酸锂靶材(LiO3V) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
京迈研3413 二硫化钨靶材(WS2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥1000
京迈研3402 氮化铝靶材(AlN) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料¥800
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